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J-GLOBAL ID：200903074875625267

二次電子放出膜の製造方法及び二次電子放出膜

Inventor： 高橋 伸子 ,  吉原 俊夫
Applicant, Patent owner： 大日本印刷株式会社
Agent (1)： 吉田 勝広 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998327152
Publication number (International publication number)：2000156153
Application date： Nov. 17, 1998
Publication date： Jun. 06, 2000
Summary：

【要約】【課題】 比較的低温度の膜形成でも優れた二次電子放出性を示し、大面積の塗布形成が可能であり、量産性・コスト面で優れた二次電子放出膜とその形成方法を提供すること。【解決手段】 マグネシウム化合物微粒子含有液を基板上に塗布し、この塗布膜に活性エネルギー線を照射することを特徴とする二次電子放出膜の製造方法、及び該方法によって得られる二次電子放出膜。

Claim (excerpt)：

マグネシウム化合物微粒子含有液を基板上に塗布し、この塗布膜に活性エネルギー線を照射することを特徴とする二次電子放出膜の製造方法。

IPC (5)：

H01J 9/12 ,  H01J 1/32 ,  H01J 11/00 ,  H01J 11/02 ,  H01J 43/10

FI (5)：

H01J 9/12 Z ,  H01J 1/32 B ,  H01J 11/00 K ,  H01J 11/02 B ,  H01J 43/10

F-Term (15)：

5C040FA01 ,  5C040FA04 ,  5C040GB03 ,  5C040GB14 ,  5C040GE07 ,  5C040GE09 ,  5C040JA01 ,  5C040JA02 ,  5C040JA28 ,  5C040KB19 ,  5C040KB22 ,  5C040LA17 ,  5C040MA12 ,  5C040MA17 ,  5C040MA25