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J-GLOBAL ID：200903074921967461

プラズマ処理開始方法

Inventor： 深澤 和夫 ,  野中 龍
Applicant, Patent owner： 東京エレクトロン山梨株式会社
Agent (1)： 井上 一 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992059367
Publication number (International publication number)：1993226292
Application date： Feb. 13, 1992
Publication date： Sep. 03, 1993
Summary：

【要約】【目的】 プラズマ生成前に冷却ガスの供給を可能とすることで、被処理体の温度上昇による損傷防止と、立ち上がり時間の短縮を図る。【構成】 接地状態にある載置案内手段40上に被処理体1を置くことで該被処理体1を除電し、載置台10の下部にある導電層16との間にクーロン力を作用させる。このクーロン力により被処理体1を載置台10上に吸着保持した後、冷却ガスを供給し、その後にプラズマの生成を開始する。

Claim (excerpt)：

載置台上に配置された静電チャックシートに静電吸着用電圧を印加し、続いて、接地状態にある載置案内手段を用いて除電された被処理体を静電チャックシート上に載置し、次いで、前記被処理体と静電チャックシート上面との間に冷却ガスを供給し、その後、前記被処理体の周囲にプラズマを生成する、ことを特徴としたプラズマ処理開始方法。

IPC (2)：

H01L 21/302 ,  H01L 21/68

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 特開平3-169041
  
• 特開昭61-112510
  
• 特開平3-069958
  
• 特開平3-291389