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J-GLOBAL ID：200903074932110635
液晶表示装置用電極基板の製造方法およびそれを用いた液晶表示装置
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995137767
Publication number (International publication number)：1996334748
Application date： Jun. 05, 1995
Publication date： Dec. 17, 1996
Summary：
【要約】【目的】アクティブマトリクス型液晶表示装置に用いられる電極基板の製造方法、および、本発明の製造方法により製造された電極基板を用いた液晶表示装置に関する。【構成】薄膜トランジスタ形成電極基板上のトランジスタ形成面側に、紫外線硬化型接着剤層を形成後、カラーフィルターを形成した転写シートを貼り合わせ、しかる後、トランジスタ非形成面側から紫外線を照射し、カラーフィルターを前記電極基板上に転写形成し、未露光未硬化の接着剤を除去後、薄膜トランジスタ上にスルーホールを持つ保護膜を形成した後、前記スルーホールによりドレイン電極と電気的に接続した透明導電膜よりなる画素電極を形成し、次いで、少なくとも前記薄膜トランジスタおよび配線を覆う遮光膜を所望の形状にて形成することを特徴とするアクティブマトリクス型液晶表示装置用電極基板の製造方法。
Claim (excerpt)：
?@ 透明基板上に少なくとも薄膜トランジスタからなる素子、および、配線が形成された薄膜トランジスタ形成電極基板の薄膜トランジスタ形成面側に、硬化した時点で透明である非加熱紫外線硬化型接着剤層を施した後、?A 前記電極基板に、支持シート上にカラーフィルターを形成した転写シートを、前記カラーフィルターと前記電極基板とを対向させて貼り合わせ、しかる後、前記電極基板の薄膜トランジスタ非形成面側から紫外線を照射し、前記電極基板の光透過部上の接着剤を光硬化させた後、支持シートを剥がすことで前記電極基板上にカラーフィルターを転写形成し、?B 前記素子および配線上の未露光未硬化の接着剤を除去後、少なくとも前記薄膜トランジスタ領域上に保護膜を形成し、?C 前記薄膜トランジスタのドレイン電極領域上の前記保護膜に、所定パターンに従って一部ドレイン電極を露出させるスルーホールを形成し、?D 前記電極基板の薄膜トランジスタ形成面側全面に透明導電膜を形成後、これを所定の形状にパターニングし、前記スルーホールによりドレイン電極と電気的に接続した透明導電膜よりなる画素電極を形成し、?E 次いで、少なくとも前記素子領域および配線領域を覆う遮光膜を所望の形状にて形成する、上記?@〜?Eの工程を具備することを特徴とするアクティブマトリクス型液晶表示装置用電極基板の製造方法。
IPC (4)：
G02F 1/1333 500
, G02B 5/20 101
, G02F 1/1335 505
, G02F 1/136 500
G02F 1/1333 500
, G02B 5/20 101
, G02F 1/1335 505
, G02F 1/136 500
