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J-GLOBAL ID：200903074942890507

ガス溶解洗浄水の改質方法

Inventor： 森田 博志 ,  井田 純一
Applicant, Patent owner： 栗田工業株式会社
Agent (1)： 内山 充
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998356361
Publication number (International publication number)：2000176463
Application date： Dec. 15, 1998
Publication date： Jun. 27, 2000
Summary：

【要約】【課題】電子材料のウェット洗浄工程で使われる、酸化性ガス又は還元性ガスを溶解した電子材料用洗浄水を、不活性な純水に変換して有効に再利用することができるガス溶解洗浄水の改質方法。【解決手段】酸化性ガス又は還元性ガスを溶解した電子材料用洗浄水を、不活性ガスと接触させることにより、不活性な純水に変換することを特徴とするガス溶解洗浄水の改質方法。

Claim (excerpt)：

酸化性ガス又は還元性ガスを溶解した電子材料用洗浄水を、不活性ガスと接触させることにより、不活性な純水に変換することを特徴とするガス溶解洗浄水の改質方法。

IPC (2)：

C02F 1/58 ,  C11D 7/50

FI (2)：

C02F 1/58 H ,  C11D 7/50

F-Term (13)：

4D038AA08 ,  4D038AB24 ,  4D038AB27 ,  4D038BB03 ,  4D038BB06 ,  4D038BB07 ,  4D038BB09 ,  4H003BA12 ,  4H003DA15 ,  4H003EA31 ,  4H003ED02 ,  4H003FA03 ,  4H003FA48

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (4)

• オゾン水処理装置およびそれを用いた洗浄処理装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-254651   Applicant：株式会社芝浦製作所
• 水中のオゾンの処理方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-229758   Applicant：オルガノ株式会社
• 半導体等の洗浄水処理装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-353912   Applicant：株式会社カイジョー
• 特開平4-058528
  

Cited by examiner (2)

• オゾン水処理装置およびそれを用いた洗浄処理装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-254651   Applicant：株式会社芝浦製作所
• 水中のオゾンの処理方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-229758   Applicant：オルガノ株式会社