Pat
J-GLOBAL ID:200903074955851950

粒子加速器

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 紋田 誠
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998051286
Publication number (International publication number):1999233300
Application date: Feb. 18, 1998
Publication date: Aug. 27, 1999
Summary:
【要約】【課題】 荷電粒子ビームの線量のばらつきや時間変動を抑えることができる粒子加速器を得ることである。【解決手段】 荷電粒子発生設備により、イオン源1で生成された荷電粒子を所定のエネルギーまで入射用加速器2で加速し対象物6に照射するエネルギーまで主加速器3でさらに加速しその加速した荷電粒子を対象物までビーム輸送系4で輸送する。荷電粒子発生設備のビーム輸送系4からの荷電粒子はビーム照射系5に入射され対象物に照射される。この場合、加速器制御回路8は、線量制御回路10からの制御指令に基づいて対象物6に照射される荷電粒子ビームの照射線量が基準値になるように荷電粒子発生設備を制御すると共に、対象物6に照射される荷電粒子ビームの照射線量の積算値が所定量になると対象物6への荷電粒子ビームの照射を停止する。
Claim (excerpt):
イオン源で生成された荷電粒子を所定のエネルギーまで入射用加速器で加速し対象物に照射するエネルギーまで主加速器でさらに加速しその加速した荷電粒子を前記対象物までビーム輸送系で輸送する荷電粒子発生設備と、前記荷電粒子発生設備の前記ビーム輸送系からの荷電粒子を対象物に照射するビーム照射系と、前記対象物に照射される前記荷電粒子ビームの照射線量が予め設定された基準値になるように荷電粒子ビームの照射量を調整するための制御指令を出力する線量制御回路と、前記線量制御回路からの制御指令に基づいて前記対象物に照射される荷電粒子ビームの照射線量が基準値になるように前記荷電粒子発生設備を制御すると共に前記対象物に照射される前記荷電粒子ビームの照射線量の積算値が所定量になると前記対象物への前記荷電粒子ビームの照射を停止する加速器制御回路とを備えたことを特徴とする粒子加速器。
IPC (3):
H05H 13/04 ,  A61N 5/10 ,  G21K 5/04
FI (3):
H05H 13/04 M ,  A61N 5/10 H ,  G21K 5/04 A

Return to Previous Page