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J-GLOBAL ID：200903074983388379

多孔質分離膜及びその製造方法

Inventor： 大嶋 仁英 ,  積 洋二
Applicant, Patent owner： 京セラ株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997134872
Publication number (International publication number)：1998323547
Application date： May. 26, 1997
Publication date： Dec. 08, 1998
Summary：

【要約】【課題】各種混合流体から特定成分を分離する際、透過率及び透過係数比の特性に優れ、薄膜化が容易で、とりわけ大気中や各種燃焼排気ガスあるいは反応ガス中から二酸化炭素や酸素を、特に高温の二酸化炭素を優先的に分離するのに好適な耐熱性に優れたシリカ質の多孔質分離膜及びその製造方法を得る。【解決手段】アルコール溶媒中で部分加水分解したシリコンアルコキシドと、Si原子に直接結合した1乃至2個のフェニル基を有するシリコンアルコキシドとの複合アルコキシドを作製し、該複合アルコキシドを加水分解して得た前駆体ゾルを無機多孔質体に塗布後、乾燥し、300〜600°Cの温度で焼成して、前駆体ゾル作製時に導入したフェニル基の30重量%以上がフェニル基を含む有機物として膜中に残留する多孔質分離膜とする。

Claim (excerpt)：

シリコンアルコキシドと、フェニル基を有するシリコンアルコキシドとをアルコール溶媒中で複合化し、該複合アルコキシドを加水分解して得た前駆体ゾルの焼成体から成り、該焼成体に前記前駆体ゾルの作製時に導入したフェニル基の30重量%以上が、該フェニル基を含有する有機物として残留していることを特徴とする多孔質分離膜。

IPC (2)：

B01D 71/02 500 ,  C01B 33/14

FI (2)：

B01D 71/02 500 ,  C01B 33/14