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J-GLOBAL ID：200903074989591079

非線形光学材料およびその製造方法

Inventor： 真鍋 由雄 ,  三露 常男
Applicant, Patent owner： 松下電器産業株式会社
Agent (1)： 池内 寛幸 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992321579
Publication number (International publication number)：1994167729
Application date： Dec. 01, 1992
Publication date： Jun. 14, 1994
Summary：

【要約】【目的】 局所電場の増大効果によって非線形光学特性の向上ができ、かつ良好な非線形光学特性を有する非線形光学材料及びその製造方法を提供する。【構成】 スパッタ装置13を用いてCu2 Oと窒化アルミニウムのターゲット1,2に高周波電力を供給して順次シャツター6、7を開閉しスパッタリングを行う。この際、Cu2 O微粒子形成後に、水素ガスの電子サイクロトロン共鳴プラズマを照射して、Cu2 O微粒子の上面をCuに還元してCu2 OとCuの複合微粒子を形成し、次いで窒化アルミニウムの非晶質薄膜を形成する。この一連の行程を繰り返し行って非線形光学材料を得る。

Claim (excerpt)：

Cu2 O、Ag2 O、Pb2 Oから選ばれた1種の酸化物半導体の微粒子の表面の一部を前記酸化物半導体を構成する金属材料の薄膜によって覆われた複合微粒子が、前記酸化物半導体より大きな光学的バンドギャップを有する炭化物または窒化物非晶質膜中に分散されてなる非線形光学材料。