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J-GLOBAL ID：200903075002091840

光散乱・吸収体の光学的測定装置

Inventor： 綱沢 義夫 ,  小田 一郎 ,  常石 召一
Applicant, Patent owner： 株式会社島津製作所
Agent (1)： 野口 繁雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994309719
Publication number (International publication number)：1996010244
Application date： Nov. 18, 1994
Publication date： Jan. 16, 1996
Summary：

【要約】【目的】 定常光法で各測定成分の成分濃度を求める。【構成】 Δy算出手段30は送受光部間距離a1とa2をパラメータとする吸光度差Δyを求め、m(λ)算出手段32は求められたΔyを用いてその二次関数によるm(λ)(λは波長)をm(λ)=p・Δy2+q・Δy+r(p,q,rは係数)として求める。成分濃度算出手段34は各測定成分iの成分濃度xi(i=1,2,......)を複数の波長λについてのm(λ)を含む方程式の解として求める。

Claim (excerpt)：

光散乱・吸収体である被検体の一部に測定光を入射し、その被検体上で前記測定光の入射点から離れた受光点で測定光を受光するとともに、入射点と受光点との距離を複数種類に異ならせるように入射点と受光点のうちの一方が複数個設けられている測定光学系と、受光点と入射点の1つの組における受光点と入射点との距離をa1、その受光点での受光強度をI1とし、受光点と入射点の他の組における受光点と入射点との距離をa2、その受光点での受光強度をI2(I1>I2)としたとき、 lnI2-lnI1 =-(a2-a1)B+ln(a2B+1)-ln(a1B+1)-3ln(a2/a1)に基づいてμa・μs’を求める演算部と、を備えたことを特徴とする光学的測定装置。ただし、B=(3μa・μs’)1/2μa;吸収係数μs’=(1-g)μs;μs;散乱係数g;散乱の非等方性パラメータ

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開昭46-005200
  
• 特開平4-135547
  
• 反射スペクトル測定装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-215580   Applicant：住友電気工業株式会社