Pat

J-GLOBAL ID：200903075004581453

画質の改良方法

Inventor： チア-ヒュー チャン ,  アンドリュー マー ,  タイ ホン グエン ,  ハリー ヨセフ エバース ,  フゴ ステフェン ラバー
Applicant, Patent owner： チバ スペシャルティ ケミカルズ ホールディング インコーポレーテッド
Agent (1)： 萼 経夫 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997262848
Publication number (International publication number)：1998097059
Application date： Sep. 10, 1997
Publication date： Apr. 14, 1998
Summary：

【要約】【課題】 光重合可能な材料における散乱光および拡散光によって引き起こされる望ましくない重合を減少し、そして該光重合可能な材料への光照射によって形成された最終の現像された画像の品質および解像度を改良するための方法を提供する。【解決手段】 光重合可能な材料に、N-オキシルもしくはニトロキシド化合物、キノンメチド、ニトロソ化合物、ガルビノキシル、フェノチアジン、ヒドロキノンおよび選択されたフェノールからなる群より選択された有効抑制量の抑制剤を添加することからなり、該抑制剤の量は、拡散光または散乱光による重合を防止または軽減するために十分であるが、しかし光によって直接に照射された該光重合可能な材料の重合を妨げるためには不十分である方法。

Claim (excerpt)：

光重合可能な材料における散乱光および拡散光によって引き起こされる望ましくない重合を減少し、そして該光重合可能な材料への光照射によって形成された最終の現像された画像の品質および解像度を改良するための方法であって、該光重合可能な材料に、N-オキシルもしくはニトロキシド化合物、キノンメチド、ニトロソ化合物、ガルビノキシル、フェノチアジン、ヒドロキノンおよび選択されたフェノールからなる群より選択された有効抑制量の抑制剤を添加することからなり、該抑制剤の量は、拡散光または散乱光による重合を防止または軽減するために十分であるが、しかし光によって直接に照射された該光重合可能な材料の重合を妨げるためには不十分である方法。

IPC (4)：

G03F 7/004 502 ,  G03F 7/028 ,  C08F 2/40 ,  C08F 2/48

FI (4)：

G03F 7/004 502 ,  G03F 7/028 ,  C08F 2/40 ,  C08F 2/48