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J-GLOBAL ID:200903075013448626
粒子の被膜方法および装置
Inventor:
,
,
,
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998280105
Publication number (International publication number):2000109969
Application date: Oct. 01, 1998
Publication date: Apr. 18, 2000
Summary:
【要約】【課題】 粒子の表面に均一、且つ高純度な被膜相を形成することができ、粒子表面の改質や電導性等の機能の付与などによって粒子の付加価値を高めることのできる、新しい粒子の被膜方法および装置を提供する。【解決手段】 真空蒸着により粒子の表面へ被膜を形成させる方法において、粒子を振動子による振動を加えることにより連続的に運動させて、この粒子全表面を均等に分子線源の方向に向かせながら、真空蒸着を行なう。
Claim (excerpt):
真空蒸着により粒子の表面へ被膜を形成させる方法において、粒子を振動子による振動を加えることにより連続的に運動させて、この粒子全表面を均等に分子線源の方向に向かせながら、真空蒸着を行なうことを特徴とする粒子の被膜方法。
IPC (3):
C23C 14/00
, B22F 1/02
, C23C 14/24
FI (3):
C23C 14/00 A
, B22F 1/02 Z
, C23C 14/24 S
F-Term (14):
4K018BB04
, 4K018BB05
, 4K018BC28
, 4K029AA04
, 4K029AA08
, 4K029AA09
, 4K029AA22
, 4K029BA04
, 4K029BA47
, 4K029BC03
, 4K029CA01
, 4K029DA01
, 4K029DB05
, 4K029DB18
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (7)
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特開平1-028364
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特開昭58-031076
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特開昭61-030663
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特開平1-147065
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粉末への被膜形成装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-011404
Applicant:日本真空技術株式会社
-
複合粉末製造装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-008302
Applicant:芝府エンジニアリング株式会社, 株式会社東芝
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導電性薄膜被覆装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-123372
Applicant:株式会社リコー
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