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J-GLOBAL ID：200903075018905618

反射型アクティブマトリクス基板及びその製造方法並びに液晶表示装置

Inventor：
三ツ井 精一

About 三ツ井 精一

, 
中村 久和

About 中村 久和


Applicant, Patent owner：
シャープ株式会社

About シャープ株式会社


Agent (1)： 山本 秀策
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992184084
Publication number (International publication number)：1994027481
Application date： Jul. 10, 1992
Publication date： Feb. 04, 1994
Summary：
【要約】【目的】 波長依存性が少ない良好な反射特性を有し、しかも再現性良く製造できるようにする。【構成】 ガラス基板11に高さが異なる2つの凸部14a、14bを形成し、その凸部14a、14bが形成されたガラス基板11の上に高分子樹脂膜15を形成する。これにより、高分子樹脂膜15の上表面は連続する波状となる。この上に、光反射機能を有する絵素電極19を形成すると、絵素電極19も高分子樹脂膜15の上表面と同様の形状となり、波長依存性の少ない白色反射が得られることとなる。また、凸部14a、14bは、フォトマスク13を用いた光学的手法により形成するので、再現性のよい反射特性が得られる。
Claim (excerpt)：
絶縁性基板上に、光反射機能を有する材料からなる絵素電極がマトリクス状に配設され、該絵素電極の上表面が連続する波状に形成された反射型アクティブマトリクス基板。
IPC (2)：
G02F 1/1343 ,  G02F 1/1333
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (25)
  • 特開昭58-127970
  • 特開昭58-130380
  • 特開昭58-136085
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