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J-GLOBAL ID：200903075019340916

フォトソルダーレジスト組成物

Inventor： 久保田 裕之
Applicant, Patent owner： 東洋インキ製造株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995126174
Publication number (International publication number)：1996320564
Application date： May. 25, 1995
Publication date： Dec. 03, 1996
Summary：

【要約】【目的】フォト法で画像形成可能でありながら優れた物理的特性を与えられるフォトソルダーレジスト組成物の提供。【構成】(A)分子内にカルボキシル基およびアルコール性水酸基を有する活性エネルギー線硬化性樹脂および(B)シリコーンプレポリマーを含むフォトソルダーレジスト組成物。【効果】本発明の組成物は、耐薬品性、耐溶剤性、耐水性、耐湿性、耐湿負荷性、耐メッキ性等が著しく優れるため、メッキ工程等で密着性の低下によるトラブルが発生することは無い。また、低誘電率を実現するフォトソルダーレジスト皮膜が得られるため、高周波特性にも優れる。さらに、低膨張率であるため、チップオンボード、マルチチップモジュール等の技術に対応可能となる。

Claim (excerpt)：

(A)分子内にカルボキシル基およびアルコール性水酸基を有する活性エネルギー線硬化性樹脂および(B)シリコーンプレポリマーを含むことを特徴とするフォトソルダーレジスト組成物

IPC (3)：

G03F 7/075 511 ,  G03F 7/038 501 ,  H05K 3/06

FI (3)：

G03F 7/075 511 ,  G03F 7/038 501 ,  H05K 3/06 H