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J-GLOBAL ID：200903075031119354
回路基板パターンの寸法計測方法とその装置、並びに回路基板の良否選別方法とその装置
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
秋本 正実
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992188090
Publication number (International publication number)：1994034336
Application date： Jul. 15, 1992
Publication date： Feb. 08, 1994
Summary：
【要約】【目的】 混成回路基板自体の各部寸法や、その基板上のパターンの寸法とその配置を高速に、しかも自動的に高精度に計測すること。【構成】 混成回路基板14におけるセラミック部分に対する画像は偏光照明・偏光検出方式によって、また、有機薄膜部分に対する画像は主に蛍光検出方式によって検出されるようにしたものである。それぞれの方式で拡大結像された、計測対象を含む画像はTVカメラ16で撮像された上、結果的に、画像処理によってその計測対象各々の混成回路基板14上の位置は自動的に算出されるが、任意部分の寸法は計測対象の位置の差として算出され得るものである。
Claim (excerpt)：
セラミック回路基板上に有機薄膜回路層が形成されてなる混成回路基板上の各部の寸法を計測する方法であって、直線偏光照明光で混成回路基板を照明した状態で、該照明光の偏光方向とは直交する偏光方向の反射光にもとづき第1の基板全体画像を検出する一方、短波長単色光の照明光で回路基板を照明した状態で、該照明光より長波長側に発せられる蛍光にもとづき第2の基板全体画像を検出するようにし、混成回路基板上の複数の計測対象各々に対し予め定められている画像検出方式に応じて第1、または第2の基板全体画像を選択した上、選択された基板全体画像から該計測対象の該画像内での位置を算出し、第1,第2の基板全体画像各々に対し予め計測されている画像内位置と絶対的な位置座標との関係にもとづき、計測対象対応の画像内位置を絶対的な位置座標に変換した後は、任意な2つの計測対象対応の絶対的な位置座標の差として、任意部分の寸法が計測されるようにした回路基板パターンの寸法計測方法。
IPC (3)：
G01B 11/24
, G01N 21/88
, G06F 15/62 405
