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J-GLOBAL ID:200903075090799067

付加物の製造法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 萼 経夫 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1993129959
Publication number (International publication number):1994122678
Application date: May. 06, 1993
Publication date: May. 06, 1994
Summary:
【要約】【目的】アルコールへのエポキシ化合物の付加率の高い方法の提供【構成】アルコールをエポキシ化合物と反応させることにより付加物を製造する方法であって、式I:【化1】(式中、Aは脂肪族基を、rは1乃至10の数を表す。)のアルコールを、ヒドロキシル基とエポキシ基に基づいて、当量比1:20ないし20:1でモノ-またはジエポキシドを、触媒としての式II:【化2】(式中、Mは例えば、La,Cu,ZnまたはFeを、L1とL2はベンジルフェニルスルフィド、CH3CN またはH2O を、そしてL3は強結合性の非置換性の中性またはアニオンの単-複座配位子を、X はBF4 - 、ClO4- またはCF3SO3 -を、kは1 または2 を、x は1-1000を、y は0-1000を、z は0-6 を表す。)の金属錯体の存在下反応させる方法。
Claim (excerpt):
触媒の存在下アルコールをエポキシ化合物と反応させることにより付加物を製造する方法であって;次式I:【化1】(式中、Aは脂肪族、環式脂肪族またはアルアリファチック(araliphatic) 基を表しそしてrは1ないし10の数を表す。)のアルコールを、ヒドロキシル基およびエポキシ基を基準にして当量比1:20ないし20:1のモノ-またはジエポキシドと、触媒としての次式II:【化2】(式中、Mは元素周期表の主族または副族の金属を表し;L1 とL2 は弱く結合した中性の、単座または複座の配位子を表し;L3 は強く結合した、非置換性の中性またはアニオン性の単座または複座の配位子を表し;Xは次式:BF4 - 、PF6 - 、AsF6 - 、SbF6 - 、ClO4 - 、IO4 - 、NO3 - の陰イオンを表すかまたは過フッ化アルカンスルホン酸のスルホネート基を表し;nは1ないし6の整数を表し;mは0または1ないし6の整数を表し;kは1または2を表し;xは1ないし1000の整数を表し;yは0または1ないし1000の整数を表し;zは0または1ないし6の整数を表す。)の金属錯体の存在下、反応させることからなる方法。
IPC (7):
C07D301/28 ,  B01J 31/22 ,  C08G 59/62 NJH ,  C08G 59/68 NKM ,  C07B 61/00 300 ,  C07D303/22 ,  C07D303/24
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (1)
  • 特開平4-342580

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