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J-GLOBAL ID：200903075123514608

好気性処理装置

Inventor：
諏訪 秀行

About 諏訪 秀行

, 
佐久間 正芳

About 佐久間 正芳

, 
田中 真

About 田中 真


Applicant, Patent owner：
日立プラント建設株式会社

About 日立プラント建設株式会社


Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998342695
Publication number (International publication number)：2000167579
Application date： Dec. 02, 1998
Publication date： Jun. 20, 2000
Summary：
【要約】【課題】処理槽内で微生物固定化担体を少ないエネルギーで効率的に流動させることができる。【解決手段】処理槽12内の一方端側に散気装置14を配設し、他端側底部に一方向吐出型のポンプ式攪拌装置16を複数配設する。そして、ポンプ式攪拌装置16は吸い込んだ被処理水を一端側に向けて吐出する。これにより、処理槽12内の底部には、他端側から一端側に向けて被処理水の層流が発生する。この層流により処理槽12の底部に沈降した微生物固定化担体20は層流で掃かれるように一端側に移動する。一端側には、散気装置14によりエアが上向きに散気されてエアリフト作用が発生しているので、一端側に掃き寄せられた微生物固定化担体は、エアリフト作用により被処理水中を上昇する。これにより、微生物固定化担体20は処理槽12の底部に堆積することなく被処理水中を流動する。
Claim (excerpt)：
処理槽内の被処理水と多数の微生物固定化担体とを好気性条件下で接触させて前記被処理水を生物学的に浄化処理する好気性処理装置において、前記処理槽内の一方端側に、前記被処理水中にエアを上向きに散気する散気手段を配設し、前記処理槽内の他方端側底部に、前記被処理水を吸い込んで前記一方端側に向けて吐出する複数の一方向吐出型のポンプ式攪拌装置を横一列に配設したことを特徴とする好気性処理装置。
IPC (2)：
C02F 3/08 ,  C02F 3/20
FI (2)：
C02F 3/08 B ,  C02F 3/20 B
F-Term (15)：
4D003AA13 ,  4D003AA14 ,  4D003AB04 ,  4D003AB09 ,  4D003DA07 ,  4D003DA11 ,  4D003DA18 ,  4D003DA19 ,  4D003DA20 ,  4D003DA30 ,  4D003FA02 ,  4D029AA01 ,  4D029AB06 ,  4D029BB10 ,  4D029DD03
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (4)
  • 旋回流曝気装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-152401   Applicant：日立プラント建設株式会社, 船越泰司
  • 汚水処理槽
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-308599   Applicant：株式会社荏原総合研究所, 株式会社荏原製作所
  • 汚水処理槽
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-308600   Applicant：株式会社荏原総合研究所, 株式会社荏原製作所
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