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J-GLOBAL ID：200903075141566380

レチクル

Inventor： 佐藤 敏則
Applicant, Patent owner： 日本プレシジョン・サーキッツ株式会社
Agent (1)： 松田 和子
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995261436
Publication number (International publication number)：1997106935
Application date： Oct. 09, 1995
Publication date： Apr. 22, 1997
Summary：

【要約】【課題】 マスク位置合わせ精度判定用のパターンとデフォーカスレベル判定用のパターンをレチクルに設けることにより、フォトリソグラフィ工程におけるマスク位置合わせ精度とデフォーカスレベルを簡単に判定できるようにする。【解決手段】 マスク位置合わせ精度判定用のパターンに応じて形成されたパターン9は1辺の長さが9.0μmの正方形形状のものであり、下地パターン7はパターン9の形状にそれぞれ応じた形状で、それぞれの1辺の長さを5.0μmとしている。パターン9と下地パターン7との矢印AおよびB方向のそれぞれの幅の均等具合に応じてマスクの位置合わせ判定が行なえる。さらに、大きさの異なるパターン1a〜1eに応じてレジストに形成される開口部10a〜10dの開口状態によって、デフォーカスレベルの判定が行なえる。

Claim (excerpt)：

集積回路を形成するための所望のパターンと、マスク位置合わせ精度判定用のパターンと、デフォーカスレベル判定用のパターンとを備えたことを特徴とするレチクル。

IPC (2)：

H01L 21/027 ,  G03F 9/00

FI (4)：

H01L 21/30 515 F ,  G03F 9/00 H ,  H01L 21/30 522 Z ,  H01L 21/30 525 D