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J-GLOBAL ID：200903075184490345
負イオンの発生方法及びその装置
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
吉嶺 桂 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993214822
Publication number (International publication number)：1995057643
Application date： Aug. 09, 1993
Publication date： Mar. 03, 1995
Summary：
【要約】【目的】 電場の設定を行なわないか、又は極く微弱な電場設定のみで、負イオンを効率的に空間中に発生できる負イオンの発生方法と装置を提供する。【構成】 気体通過性の光電子放出材2と、該光電子放出材の表面及び/又は裏面に、紫外線及び/又は放射線を照射する照射源3と、前記光電子放出材の裏面から気体8を導入する負イオン発生装置5とを有する負イオンの発生装置であり、該装置は、また、20V/cm以下の電場をかける装置12を備えていてもよい。さらに、該装置に荷電された微粒子を捕集する装置13を設けることにより、清浄化装置としてもよい。
Claim (excerpt)：
気体通過性の光電子放出材の表面及び/又は裏面に、紫外線及び/又は放射線を照射しながら、該光電子放出材の裏面より気体を導入して該光電子放出材の表面に負イオンを発生させることを特徴とする負イオンの発生方法。
IPC (6)：
H01J 27/20
, B03C 3/38
, F24C 7/00
, G21H 5/00
, H01J 27/24
, H05H 7/08
