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J-GLOBAL ID：200903075216058319

マイクロ波プラズマ処理方法と装置

Inventor： 福山 良次 ,  臼井 建人
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 高田 幸彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992249591
Publication number (International publication number)：1994101071
Application date： Sep. 18, 1992
Publication date： Apr. 12, 1994
Summary：

【要約】【目的】本発明の目的は、プラズマ処理装置で生成するプラズマを均一なプラズマとすることにより、被処理物を均一にプラズマ処理できるプラズマ処理方法と装置を提供することにある。【構成】プラズマ密度分布測定部200と装置制御部300とで構成されるプラズマ制御機構を有することを特徴とするマイクロ波プラズマ処理方法と装置。【効果】被処理物を均一にプラズマ処理することができる。

Claim (excerpt)：

マイクロ波を真空容器内に導入して、前記容器内に導入した処理ガスをプラズマ化し被処理物をプラズマ処理するマイクロ波プラズマ処理装置において、プラズマ密度分布を計測し、該計測結果を任意範囲で強調処理した後、プラズマ操作因子を制御しプラズマ密度の均一化を行なうことを特徴とするマイクロ波プラズマ処理方法。

IPC (3)：

C23F 4/00 ,  H01L 21/302 ,  H05H 1/46

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 特開平4-026781
  
• 特開昭62-273730
  
• 特開平2-230698
  
• 特開昭63-076435