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J-GLOBAL ID：200903075222369199
高分子光学材料及びそれを用いた光導波路
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
中本 宏 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996165106
Publication number (International publication number)：1997324051
Application date： Jun. 06, 1996
Publication date： Dec. 16, 1997
Summary：
【要約】【課題】 耐熱性・透明性・屈折率制御性・硬化性・耐応力性・低複屈折性をすべて併せ持つ材料、及びそれを用いた光導波路を提供する。【解決手段】 一般式(化1):Z-Si-(O0.5 )3 及び(化2):R2 Si-(O0.5 )2 (式中Zはフェニル基又は重水素化フェニル基、Rはメチル基又はエチル基)で表される繰り返し単位からなる共重合体である高分子光学材料。コアが該コアよりも屈折率の低いクラッドで囲まれた光導波路において、少なくとも前記コアに前記高分子光学材料を用いた光導波路。【効果】 クラッキングによる損傷が抑えられ、光導波路の製造を高効率化することができる。
Claim (excerpt)：
下記一般式(化1)及び(化2):【化1】【化2】(前記式中、Zはフェニル基あるいは重水素化フェニル基、Rはメチル基あるいはエチル基を示す)で表される繰り返し単位からなる共重合体であることを特徴とする高分子光学材料。
IPC (3)：
C08G 77/04 NUA
, G02B 1/04
, G02B 6/12
C08G 77/04 NUA
, G02B 1/04
, G02B 6/12 N
