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J-GLOBAL ID：200903075236962402

機械的に処理された基材をポストエッチングする方法

Inventor： スピーリングス ヘイスベルタス アドリアヌス コルネラス マリア ,  ラーセン ポール キールピー ,  ファン デル ピュッテン イアン バプティスト ペトルス ヘンリクス ,  ブシオ ヨハネス マリア マルクス ,  イン フェルト フレデリク ヘンドリク ,  ポストマ ランベルタス
Applicant, Patent owner： コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ
Agent (1)： 杉村 暁秀 (外5名)
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：1998527487
Publication number (International publication number)：2000506829
Application date： Dec. 04, 1997
Publication date： Jun. 06, 2000
Summary：

【要約】例えばプラズマアドレスド液晶ディスプレイのガラスダクトプレート内の孔、及び/又は空所のパターンを設ける方法であり、まず(例えば粉末ブラストによって)機械的処理を行い、次に湿式化学エッチング処理を行い、ガラスダクトの壁の顕微鏡的粗さを減少させ、光学的攪乱を減少させ、ガラスを再び一層透明にする。

Claim (excerpt)：

機械的処理を行った後、湿式化学エッチングプロセスを行って、孔、及び空 所の壁の顕微鏡的粗さを減少させることを特徴とし、機械的処理を使用して基 材の表面に孔、及び/又は空所のパターンを設ける方法。

IPC (4)：

C03C 15/00 ,  C23F 1/02 ,  G02F 1/13 101 ,  G02F 1/1333

FI (4)：

C03C 15/00 D ,  C23F 1/02 ,  G02F 1/13 101 ,  G02F 1/1333