焦点された光線を発生させる方法及び装置

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (2)：廣江武典 , 宇野健一
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2003517656
Publication number (International publication number)：2004537749
Application date： Jul. 18, 2002
Publication date： Dec. 16, 2004
Summary：

延長された焦点深度を有した光線を発生させる装置は高輝度の主リングと2つのサイドローブリングとを含んだ回折模様を発生させるバイナリフェーズマスク(4)と、回折模様の一部のみを通過する環状アパーチャマスク(10)と、環状アパーチャマスク(10)を通過する光線を光線軸(2)に向かって収束させて交差させるレンズ(14)とを含んでいる。収束光線が光線軸と交差するところではコンストラクティブ干渉が発生し、延長された焦点深度を有した光線(36)が発生する。

Claim (excerpt)：

延長深度の焦点を有した光線を発生させる装置であって: a.高輝度主リングを含んだ回折模様を第1焦点面に発生させる第1セクションと; b.前記第1焦点面に存在する環状アパーチャを含んでいる第2セクションであって、アパーチャの半径は前記主リングの半径と実質的に等しく、該アパーチャの幅は該主リングの幅と実質的に等しいか、それよりも多少広い第2セクションと; c.前記環状アパーチャを通過する光線を光線軸に向かって収束させて交差させる第3セクションと; を前記光線軸に沿って配列させており、前記収束光線が該光線軸と交差するところでコンストラクティブ干渉現象を発生させ、延長された焦点深度を有した光線を発生させるように構成されていることを特徴とする装置。

IPC (2)：

G02B21/06 , G02B27/46

FI (2)：

G02B21/06 , G02B27/46

F-Term (3)：

2H052AC00 , 2H052AC15 , 2H052AC34

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

特開平4-171415
特開平4-180612
照明光学装置および該照明光学装置を備えた露光装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-358749 Applicant：株式会社ニコン

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