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J-GLOBAL ID:200903075274325530

顕微鏡システム

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (4): 鈴江 武彦 ,  河野 哲 ,  村松 貞男 ,  風間 鉄也
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2003103076
Publication number (International publication number):2004309785
Application date: Apr. 07, 2003
Publication date: Nov. 04, 2004
Summary:
【課題】走査型レーザ顕微鏡による共焦点観察とバネッセント照明による蛍光観察を同時または切換えて行うことができ、特に、走査型レーザ顕微鏡側の光軸方向の焦点位置を積極的に変化させても、エバネッセント照明による蛍光観察との使い勝手がすぐれた顕微鏡システムを提供する。【解決手段】Arレーザ2のレーザ光を走査ユニット10と対物レンズ24を介し試料25上に2次元走査可能に集光させ、グリーンヘリウムネオンレーザ3のレーザ光により試料25上にエバネッセント照明を発生させ、Arレーザ2からのレーザ光の光路に波面変換素子14を配置し、試料25上にエバネッセント照明を行なう条件を満足するように対物レンズ24と試料25の機械的な位置関係を固定して、波面変換素子14によりレーザ光の試料25面上の集光位置を制御可能とする。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
レーザ光を発生する第1の光源と、 前記第1の光源からのレーザ光を試料上に集光させる対物レンズと、 前記レーザ光を前記試料上で2次元走査する光走査手段と、 前記試料にエバネッセント照明を行うための光を発生する第2の光源と、 前記第1の光源からのレーザ光の光路に設けられ、前記レーザ光の前記試料上の集光位置を前記対物レンズの光軸方向に光学的に可変制御する集光位置制御手段と、 前記エバネッセント照明により発生する蛍光を撮像する撮像手段と、を具備し、 前記試料にエバネッセント照明を行なう条件を満足するように前記対物レンズと前記試料の機械的な位置関係を固定した状態で、前記集光位置制御手段により前記レーザ光の前記試料面上の集光位置を制御可能としたことを特徴とする顕微鏡システム。
IPC (2):
G02B21/00 ,  G02B21/06
FI (2):
G02B21/00 ,  G02B21/06
F-Term (20):
2H052AA00 ,  2H052AA08 ,  2H052AA09 ,  2H052AB00 ,  2H052AB02 ,  2H052AB24 ,  2H052AB25 ,  2H052AC00 ,  2H052AC04 ,  2H052AC13 ,  2H052AC14 ,  2H052AC15 ,  2H052AC26 ,  2H052AC27 ,  2H052AC34 ,  2H052AD02 ,  2H052AD03 ,  2H052AD09 ,  2H052AD19 ,  2H052AF14
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (3)
  • 観察切り替え可能な顕微鏡
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願2001-290943   Applicant:オリンパス光学工業株式会社
  • レーザー顕微鏡
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願2001-214373   Applicant:オリンパス光学工業株式会社
  • 顕微鏡システム
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願2003-003503   Applicant:オリンパス光学工業株式会社
Cited by examiner (3)
  • 観察切り替え可能な顕微鏡
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願2001-290943   Applicant:オリンパス光学工業株式会社
  • レーザー顕微鏡
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願2001-214373   Applicant:オリンパス光学工業株式会社
  • 顕微鏡システム
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願2003-003503   Applicant:オリンパス光学工業株式会社

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