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J-GLOBAL ID：200903075276406901

有機芳香族化合物の製造方法

Inventor： フランシス エム.ホーリハン
Applicant, Patent owner： アメリカン テレフォン アンド テレグラフ カムパニー
Agent (1)： 三俣 弘文
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993256272
Publication number (International publication number)：1994336451
Application date： Sep. 21, 1993
Publication date： Dec. 06, 1994
Summary：

【要約】 (修正有)【目的】 高純度の置換スチレンを製造する新規な方法を提供する。【構成】 保護基を有するフェノールスチレンを塩基の存在下で、酸無水物,ジカーボネート,ハロゲン置換アルキルまたは酸ハロゲン化物と反応させ、一般式3のカルボニル置換スチレンを生成する。(R3は必須の置換基ではなく、低級アルキルのような基であり、R′′はSO2R′′′,-COOR′′′,-COR′′′または-CHR′′′R′′′′であり、R′′′はアルキル、アリールまたは置換アルキルもしくはアリールであるが、この置換基は加水分解または酸/塩基中和のような望ましくない塩基誘発反応を殆ど受けないものであり、R′′′′はR′′′またはHである)

Claim (excerpt)：

有機芳香族化合物の製造方法において、置換4-ヒドロキシスチレンを化学的に反応させて前記化合物を生成するステップを有し、前記置換4-ヒドロキシスチレンは、保護基を有するフェノールを塩基で処理し、そして、得られた脱保護基フェノールと、酸ハロゲン化物,ハロゲン置換アルキル,ジカーボネートおよび酸無水物からなる群から選択される化合物とを、塩基の存在下で、相互作用させることにより生成され、前記置換4-ヒドロキシスチレンは、事前に蒸留処理されることなく、前記化学反応を受けることを特徴とする有機芳香族化合物の製造方法。

IPC (13)：

C07C 39/20 ,  C07C 37/01 ,  C07C 41/16 ,  C07C 43/215 ,  C07C 67/10 ,  C07C 67/14 ,  C07C 68/06 ,  C07C 69/618 ,  C07C 69/63 ,  C07C 69/773 ,  C07C 69/96 ,  C07C303/26 ,  C07C309/66