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J-GLOBAL ID：200903075284932361

処理チャンバ内の複数領域ガス流コントロール

Inventor： デイヴィッド エス. バランス ,  ベンジャミン バイアマン ,  ジェイムズ ヴイ. タイツ
Applicant, Patent owner： アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド
Agent (1)： 長谷川 芳樹 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997231663
Publication number (International publication number)：1998121253
Application date： Jul. 24, 1997
Publication date： May. 12, 1998
Summary：

【要約】【課題】 膜の均一性を向上したシャワーヘッドを提供する。【解決手段】 一つ以上の外部の供給源から基板処理チャンバ内にガスを導入するためのシャワーヘッドであって、チャンバ内に注入されるガスが通る複数のガス注入ポートを含んでいる面板であり、複数のガス注入ポートがガス注入ポートの第一の部分的集合体及びガス注入ポートの第二の部分的集合体を有する面板と、使用中、チャンバ内に注入するためにガス注入ポートの第一の部分的集合体に第一のガスを供給する第一のガス分配システムと、使用中、チャンバ内に注入するためにガス注入ポートの第二の部分的集合体に第二のガスを供給する第二のガス分配システムとを備えているシャワーヘッド。

Claim (excerpt)：

一つ以上の外部の供給源から基板処理チャンバ内にガスを導入するためのシャワーヘッドであって、チャンバ内に注入されるガスが通る複数のガス注入ポートを含んでいる面板であり、前記複数のガス注入ポートがガス注入ポートの第一の部分的集合体及びガス注入ポートの第二の部分的集合体を有する前記面板と、使用中、前記チャンバ内に注入するために前記ガス注入ポートの第一の部分的集合体に第一のガスを供給する第一のガス分配システムと、使用中、前記チャンバ内に注入するために前記ガス注入ポートの第二の部分的集合体に第二のガスを供給する第二のガス分配システムと、を備えているシャワーヘッド。

IPC (6)：

C23C 16/44 ,  B01J 4/00 102 ,  C23F 4/00 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/22 501 ,  H01L 21/3065

FI (6)：

C23C 16/44 D ,  B01J 4/00 102 ,  C23F 4/00 Z ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/22 501 S ,  H01L 21/302 B