Pat
J-GLOBAL ID：200903075328050698
フオトマスク
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
岩佐 義幸
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991152084
Publication number (International publication number)：1993002259
Application date： Jun. 25, 1991
Publication date： Jan. 08, 1993
Summary：
【要約】【目的】 孤立パターンをパターンの一部として有するフォトマスクを投影露光する場合、転写パターンの解像度を向上させ、なおかつ作成が簡便なフォトマスクを提供する。【構成】 位相部材2を半透明にして僅かに光が透過するようにする。透過光の強度はフォトレジストの感度以下になるように位相部材の光の透過率を定める。
Claim (excerpt)：
透明基板上に半透明な位相部材を設け、前記位相部材を透過した光の強度がこの透過した光により露光されるフォトレジストの感度以下になるように前記位相部材の光の透過率を定めたことを特徴とするフォトマスク。
IPC (2)：
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (8)
Show all
Return to Previous Page
