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J-GLOBAL ID：200903075382700002

紫外光照射方法及び装置

Inventor： 神保 洋介
Applicant, Patent owner： ホーヤ・ショット株式会社
Agent (1)： 遠藤 恭
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999181713
Publication number (International publication number)：2001015472
Application date： Jun. 28, 1999
Publication date： Jan. 19, 2001
Summary：

【要約】【課題】 オゾン生成機などを必要とせず、紫外光のみによって有機物を極めて高効率に除去することができる紫外光照射方法及び装置を提供する。【解決手段】 本発明は、被処理物の被処理面に対して紫外光を照射してその洗浄又は改質を行うための紫外光照射方法において、被処理物を外気から遮断された空間内に配置する工程と、該空間内の酸素濃度を1%以上10%未満に制御する工程と、波長175nm以下の紫外光を前記被処理物の被処理面に対し照射する工程とを備える。

Claim (excerpt)：

被処理物の被処理面に対して紫外光を照射してその洗浄又は改質を行うための紫外光照射方法において、前記被処理物を外気から遮断された空間内に配置する工程と、前記空間内の酸素濃度を1%以上10%未満に制御する工程と、波長175nm以下の紫外光を前記被処理物の被処理面に対し照射する工程と、を備えた紫外光照射方法。