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J-GLOBAL ID：200903075401033047

位置検出装置

Inventor： 加藤 正紀
Applicant, Patent owner： 株式会社ニコン
Agent (1)： 大森 聡
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993008904
Publication number (International publication number)：1994224102
Application date： Jan. 22, 1993
Publication date： Aug. 12, 1994
Summary：

【要約】【目的】 色収差を有する投影光学系を介して感光基板上の位置合わせ用のマークの像を検出する際に、感光基板上の薄膜の干渉の影響を受けないようにする。【構成】 光源10からの光をダイクロイックフィルター8に通して所定の波長域のアライメント光を生成し、このアライメント光で投影光学系1を介してウエハW上のウエハマークWMを照明する。ウエハマークWMから反射されたアライメント光を、投影光学系1を介して光軸が傾斜した対物レンズ2で受光し、対物レンズ2からの光で、シリンドリカルレンズ3及び結像レンズ4を介して検出素子5の検出面にウエハマークWMの像を結像する。光軸の傾斜により軸上及び倍率色収差を軸上色収差に変換し、軸上色収差を対物レンズ2で補正し、基準波長での結像面R1と検出素子5の検出面とをアオリの関係に配置する。

Claim (excerpt)：

露光光をマスク上に照明し、該マスク上のパターン像を投影光学系を介して基板上に転写する際に、前記基板上のマークの位置を検出する装置において、前記基板上の前記マークに前記露光光とは異なる所定の波長域の位置検出光を照明する照明光学系と、前記マークからの前記位置検出光を前記投影光学系を介して集光し、前記マークの像を形成する検出光学系と、前記マークの像を検出する検出手段とを有し、前記マークからの前記位置検出光が前記投影光学系を介する事により前記投影光学系にて発生する倍率色収差と軸上色収差とを前記検出光学系に対する軸上色収差に変換するために、前記投影光学系の光軸に対して前記検出光学系の光軸を傾斜させて配置し、前記検出光学系に前記変換された軸上色収差を補正する補正光学系を設け、前記位置検出光の内の基準波長の光に関して前記基板上の前記マークの形成面と共役な面に対し、前記検出手段の検出面を前記検出光学系に関してほぼアオリの関係で配置する事を特徴とする位置検出装置。

IPC (4)：

H01L 21/027 ,  G01B 11/00 ,  G03F 9/00 ,  H01L 21/68

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開昭52-119237
  
• 特公昭56-037014
  
• 特開昭55-122634