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J-GLOBAL ID：200903075413103911

レジスト用重合体、レジスト組成物、パターンが形成された基板の製造方法

Inventor：
百瀬 陽

About 百瀬 陽

, 
中村 雅

About 中村 雅


Applicant, Patent owner：
三菱レイヨン株式会社

About 三菱レイヨン株式会社


Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2006290491
Publication number (International publication number)：2007146142
Application date： Oct. 25, 2006
Publication date： Jun. 14, 2007
Summary：
【課題】液浸用レジスト組成物に用いた場合に、浸漬液よりも高い屈折率となり、他の単量体との共重合性に優れたレジスト用重合体の提供。【解決手段】下記式で表されるナフタレン骨格を有する構成単位を含有するレジスト用重合体。(R10は水素原子またはメチル基、Gは-C(=O)-O-、-O-、または-O-C(=O)-のいずれかを表す。L1およびL2は、2価の炭化水素基,Yは-C(=O)-OH、-OH、-C(=O)-OR13、または-OR13を表す。)【選択図】なし
Claim (excerpt)：
下記式(1-1)で表されるナフタレン骨格を有する構成単位(A)を含有するレジスト用重合体。
IPC (6)：
C08F 20/10 ,  G03F 7/033 ,  H01L 21/027 ,  C08F 16/14 ,  C08F 18/04 ,  G03F 7/039
FI (6)：
C08F20/10 ,  G03F7/033 ,  H01L21/30 502R ,  C08F16/14 ,  C08F18/04 ,  G03F7/039 601
F-Term (63)：
2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AA04 ,  2H025AA09 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD01 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB14 ,  2H025CB17 ,  2H025CB41 ,  2H025CB43 ,  2H025CB45 ,  2H025FA17 ,  4J100AE09P ,  4J100AG08P ,  4J100AL02R ,  4J100AL04R ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100AL08S ,  4J100BA02P ,  4J100BA02R ,  4J100BA03P ,  4J100BA03S ,  4J100BA04R ,  4J100BA04S ,  4J100BA08P ,  4J100BA15P ,  4J100BA15R ,  4J100BA16P ,  4J100BA20R ,  4J100BA40S ,  4J100BB18S ,  4J100BC03P ,  4J100BC03R ,  4J100BC03S ,  4J100BC04P ,  4J100BC04R ,  4J100BC04S ,  4J100BC07P ,  4J100BC07R ,  4J100BC07S ,  4J100BC08P ,  4J100BC08R ,  4J100BC08S ,  4J100BC12P ,  4J100BC12R ,  4J100BC49P ,  4J100BC53Q ,  4J100BC53R ,  4J100BC53S ,  4J100CA01 ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100CA06 ,  4J100JA38
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (4)
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Cited by examiner (5)
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