プラズマ表面処理方法及び装置

Inventor： , , , , , ,
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001053635
Publication number (International publication number)：2002253952
Application date： Feb. 28, 2001
Publication date： Sep. 10, 2002
Summary：

【要約】【目的】嵩高く且つ広い面積を有する基材表面の表面改質やコーティングを大気圧付近の圧力で効率的に行なうことができる連続プラズマ処理方法、ならびにそのための装置を提供すること。【構成】一定の間隔を以て対向する一対の多孔板電極から構成される対向電極間に、電圧を印加しつつ、プラズマ処理ガスを概ね大気圧下で、前記対向電極の一方の電極側からそれぞれの電極に設けられた孔を通じ他方の電極側に噴出すように供給し、前記対向電極間に形成される放電空間を通過しプラズマ励起した前記プラズマ処理ガスを前期対向電極に対向して設置した被処理物表面に噴きつけ処理することを特徴とするプラズマ処理方法。ならびに、そのための装置。

Claim (excerpt)：

ガス透過孔を有するA電極、及びB電極から構成され、一定の間隔を以て対向する対向電極間に、電圧を印加しつつ、プラズマ処理ガスを概ね大気圧下で、A電極側からA電極、及びB電極にそれぞれ設けられたガス透過孔を通じB電極の外側に噴出すように供給し、プラズマ処理ガスを対向電極間に形成されるグロー放電空間を通過させることによりプラズマ励起させ、励起したプラズマ処理ガスをB電極のA電極側と反対側に配置した被処理物表面に噴きつけることを特徴とするプラズマ表面処理方法。

IPC (6)：

B01J 19/08 , B01J 19/24 , C08J 7/00 CFD , C08J 7/00 306 , H05H 1/24 , C08L 67:00

FI (6)：

B01J 19/08 H , B01J 19/24 Z , C08J 7/00 CFD Z , C08J 7/00 306 , H05H 1/24 , C08L 67:00

F-Term (54)：

4F073AA01 , 4F073AA04 , 4F073AA17 , 4F073BA07 , 4F073BA08 , 4F073BA13 , 4F073BA16 , 4F073BA18 , 4F073BA19 , 4F073BA23 , 4F073BA24 , 4F073BA26 , 4F073BA29 , 4F073BA31 , 4F073BB01 , 4F073CA01 , 4F073CA62 , 4F073CA63 , 4F073CA65 , 4F073CA67 , 4F073CA68 , 4F073CA70 , 4F073CA71 , 4F073CA72 , 4F073DA05 , 4F073DA06 , 4F073DA08 , 4F073DA09 , 4G075AA30 , 4G075BA10 , 4G075BD03 , 4G075CA12 , 4G075CA16 , 4G075CA25 , 4G075CA51 , 4G075CA62 , 4G075CA63 , 4G075DA12 , 4G075EA01 , 4G075EB01 , 4G075EB42 , 4G075EC02 , 4G075EC21 , 4G075EE31 , 4G075FA03 , 4G075FA14 , 4G075FA16 , 4G075FB02 , 4G075FB04 , 4G075FB06 , 4G075FB12 , 4G075FC06 , 4G075FC11 , 4G075FC15

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

大気圧プラズマ処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-049791 Applicant：株式会社リコー
プラズマCVD装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-332571 Applicant：日本電気株式会社
微粒子の分子量を変化させるための電気的方法
Gazette classification：公表公報 Application number：特願平6-523189 Applicant：ユニバーシティオブアラスカ

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