Pat
J-GLOBAL ID：200903075458146913
レジスト除去装置及びその使用方法
Inventor：
,
,
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
井内 龍二
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992251734
Publication number (International publication number)：1994104224
Application date： Sep. 22, 1992
Publication date： Apr. 15, 1994
Summary：
【要約】【構成】 マイクロ波を伝送する導波管15と、導波管15に連結された誘電体線路12と、誘電体線路12に対向配置されたマイクロ波導入窓を有する反応器11とを備え、反応器11内をマイクロ波によりプラズマを生成させるプラズマ生成室24と試料Sを載置する試料台26が配置された処理室25とに仕切るとともに、プラズマ生成室24と処理室25とを連通させる複数の孔27を有する仕切壁23が反応器11に内装されたレジスト除去装置において、試料台26と仕切壁23との間に高周波電力を供給する高周波電源17が配設されているレジスト除去装置。【効果】 高周波電力を試料台26に印加することにより、イオン注入され、変質硬化されたレジストをイオン衝撃によりスパッタリング的に除去することができ、レジスト除去速度を高めることができ、また残存する変質硬化層以外のレジスト部分はマイクロ波プラズマを用いてウエハにダメージを与えることなく除去することができる。
Claim (excerpt)：
マイクロ波を伝送する導波管と、該導波管に連結された誘電体線路と、該誘電体線路に対向配置されたマイクロ波導入窓を有する反応器とを備え、該反応器内をマイクロ波によりプラズマを生成させるプラズマ生成室と試料を載置する試料台が配置された処理室とに仕切るとともに、前記プラズマ生成室と前記処理室とを連通させる複数の孔を有する仕切壁が前記反応器に内装されたレジスト除去装置において、前記試料台と前記仕切壁との間に高周波電力を供給する電力供給手段が配設されていることを特徴とするレジスト除去装置。
IPC (5)：
H01L 21/302
, G03F 7/26
, H01L 21/027
, H01L 21/304 341
, H05H 1/46
