投影露光装置

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992237163
Publication number (International publication number)：1994084758
Application date： Sep. 04, 1992
Publication date： Mar. 25, 1994
Summary：

【要約】【目的】高速、高精度に投影光学系の焦点位置を計測でき、短時間で傾斜検出系のキャリブレーションを可能とする。【構成】パターン板8の下面より露光光ILと同一波長の照明光を基準パターン(28A〜28D)に照射する。光電検出器14は、基準パターン(28A〜28D)を透過して投影光学系6を介してレチクルRのパターン面に照射され、ここで反射されて投影光学系6、及び基準パターンを介して戻された光束を受光する。信号処理ユニット16はパターン板8と投影光学系6の結像面とを光軸方向に相対移動させたとき、光電検出器14から出力される検出信号S1に基づいて投影光学系6の焦点位置を検出する。主制御系27は投影光学系6のイメージフィールド内の複数の位置の各々での焦点位置から最良結像面を求め、この結像面とパターン板8の表面とを一致させた状態でパターン板8を用いて傾斜検出系17、18のキャリブレーションを行う。

Claim (excerpt)：

光源からの照明光をマスクに照射する照明光学系と、前記マスクに形成されたパターンを感光基板に結像投影する投影光学系と、前記感光基板を保持して前記投影光学系の結像面に対して任意に傾斜可能な基板ステージと、前記投影光学系とは無関係に前記感光基板表面の傾斜量を検出する傾斜検出手段とを備えた投影露光装置において、前記基板ステージの一部に設けられ、所定形状の基準パターンを有するパターン板と;該パターン板の下面より前記照明光とほぼ同一波長の照明光を前記基準パターンに照射する照明手段と;前記基準パターンを透過して前記投影光学系を介して前記マスクのパターン面に照射され、該パターン面から反射されて前記投影光学系及び前記基準パターンを介して戻された光を受光する光電検出手段と;前記パターン板と前記投影光学系の結像面とを前記投影光学系の光軸方向に相対移動させたとき、前記光電検出手段から出力される検出信号に基づいて前記投影光学系の焦点位置を検出する焦点位置検出手段と;前記投影光学系のイメージフィールド内の互いに異なる少なくとも3つの位置の各々での焦点位置に基づいて前記投影光学系の結像面の傾斜状態を算出する演算手段と;前記投影光学系の結像面と前記パターン板の表面とがほぼ一致するように、前記算出された前記結像面の傾斜状態に応じて前記基板ステージの傾斜を制御する制御手段と;該制御手段によって前記投影光学系の結像面と前記パターン板の表面とがほぼ一致した状態のとき、前記傾斜検出手段が前記パターン板の表面を基準面として検知するように前記傾斜検出手段を較正する手段とを備えたことを特徴とする投影露光装置。

IPC (4)：

H01L 21/027 , G03B 27/32 , G03F 7/207 , G03F 9/02

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

特開昭60-026343
特開昭58-113706
特開昭62-058624

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