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J-GLOBAL ID：200903075500147135

半導体装置

Inventor： 中村 正行 ,  大嶋 一義 ,  大鳥 浩
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 小川 勝男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993047742
Publication number (International publication number)：1994260539
Application date： Mar. 09, 1993
Publication date： Sep. 16, 1994
Summary：

【要約】【目的】 半導体チップ毎の来歴データを容易に、且つ詳細に調査することができる半導体装置を提供する。【構成】 DRAM11を製造するに当り、当該製造プロセスの前工程に係わる来歴データを記憶したROM12を同一パッケージ内に具える。前記DRAM11,ROM11は同一の半導体チップ上に形成されて、ワンチップマイクロコンピュータを形成している。又、上記ROM11は、マスクROMであり配線パターン若くはゲート電極形成時のマスクパターンに、当該データを書き込むようになっている。

Claim (excerpt)：

半導体チップ製造プロセスの前工程に係わる来歴データが記憶された記憶部をパッケージ内に具えてなることを特徴とする半導体装置。

IPC (2)：

H01L 21/66 ,  H01L 21/02