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J-GLOBAL ID：200903075517696000

硬脆材料基板用研磨剤

Inventor： 山田 勉 ,  久保 富美夫
Applicant, Patent owner： 株式会社岡本工作機械製作所
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000385483
Publication number (International publication number)：2002184726
Application date： Dec. 19, 2000
Publication date： Jun. 28, 2002
Summary：

【要約】【課題】 研磨速度が速いタンタル酸リチウム基板用研磨剤の提供。【解決手段】 研磨剤組成物中、(a)BET比表面積が40〜160m2/g、平均粒径が0.5μm以下のγ-アルミナ 1〜10重量%、(b)平均粒径が10〜100nmのコロイダルシリカまたはフュ-ムドシリカ 10〜30重量%、(c)分子量100〜400のポリエチレングリコ-ル 1〜25重量%、(d)分散助剤 0.5〜5重量%、および(e)水 30〜87重量%を含有する、pHが8.5〜12.5の硬脆材料基板用研磨剤。

Claim (excerpt)：

研磨剤組成物中、(a)BET比表面積が40〜160m2/g、平均粒径が0.5μm以下のγ-アルミナ 1〜10重量%、(b)平均粒径が10〜100nmのコロイダルシリカまたはフュ-ムドシリカ 10〜30重量%、(c)潤滑剤 1〜25重量%、(d)分散助剤 0.5〜5重量%、および(e)水 30〜87重量%を含有する、pHが8.5〜12.5の硬脆材料基板用研磨剤。

IPC (4)：

H01L 21/304 622 ,  B24B 37/00 ,  C09K 3/14 550 ,  C09K 3/14

FI (4)：

H01L 21/304 622 D ,  B24B 37/00 H ,  C09K 3/14 550 D ,  C09K 3/14 550 Z

F-Term (5)：

3C058AA07 ,  3C058CB01 ,  3C058CB03 ,  3C058DA02 ,  3C058DA17