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J-GLOBAL ID：200903075526253049

変性光触媒及びその製造方法

Inventor： 中林 亮
Applicant, Patent owner： 旭化成工業株式会社
Agent (1)： 伊藤 穣 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999218927
Publication number (International publication number)：2001038215
Application date： Aug. 02, 1999
Publication date： Feb. 13, 2001
Summary：

【要約】【課題】 光触媒の表面を穏和な条件で修飾する方法を提供することにより、溶媒分散性や樹脂相溶性の付与、架橋性能の付与等、様々な機能を発現することができる変性光触媒を得ることを目的とする。【解決手段】 ?@ ヒドロシリル基を有する化合物及びヒドロシリル基に対し脱水素縮合触媒として働く物質で変性されてなる変性光触媒。?A ヒドロシリル基に対し脱水素縮合触媒として働く物質が固定された光触媒を、ヒドロシリル基を有する化合物で変性させる変性光触媒の製法。?B 該変性光触媒を更にヒドロシリル基を有する化合物で変性させる製法。?C 該変性が光還元法によること。?D脱水素縮合触媒が白金族触媒。?E 光触媒が光触媒ゾルであること。

Claim (excerpt)：

ヒドロシリル基を有する化合物及びヒドロシリル基に対し脱水素縮合触媒として働く物質で変性されてなる変性光触媒。

IPC (4)：

B01J 31/06 ,  B01J 35/02 ,  C08G 77/08 ,  C08G 77/12

FI (4)：

B01J 31/06 M ,  B01J 35/02 J ,  C08G 77/08 ,  C08G 77/12

F-Term (33)：

4G069AA03 ,  4G069AA08 ,  4G069BA04B ,  4G069BA37 ,  4G069BA48A ,  4G069BC69A ,  4G069BC69B ,  4G069CB80 ,  4G069EA08 ,  4J035BA14 ,  4J035CA021 ,  4J035CA03M ,  4J035CA032 ,  4J035CA06M ,  4J035CA062 ,  4J035CA082 ,  4J035CA09M ,  4J035CA092 ,  4J035CA11M ,  4J035CA112 ,  4J035CA13M ,  4J035CA132 ,  4J035CA16M ,  4J035CA162 ,  4J035CA19M ,  4J035CA192 ,  4J035CA26M ,  4J035CA262 ,  4J035FB01 ,  4J035GA01 ,  4J035LA05 ,  4J035LB15 ,  4J035LB20