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J-GLOBAL ID:200903075552908568

ポジトロン断層撮像装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998256101
Publication number (International publication number):2000075034
Application date: Aug. 27, 1998
Publication date: Mar. 14, 2000
Summary:
【要約】【課題】 検者の被曝量を低減させることが可能なポジトロン断層撮像装置を提供すること。【解決手段】 被検体の周囲に補正用放射線源を回転し、該被検体の周囲に配置した撮像手段で撮像したトランスミッション像と、前記被検体に放射性同位元素を注入し体外に放射される放射線を撮像したエミッション像とから前記被検体の断層像を再構成するポジトロン断層撮像装置において、前記撮像手段内周面の近傍に補正用放射線源を一時的に格納する格納手段を設けた。
Claim (excerpt):
被検体の周囲に補正用放射線源を回転し、該被検体の周囲に配置した撮像手段で撮像したトランスミッション像と、前記被検体に放射性同位元素を注入し体外に放射される放射線を撮像したエミッション像とから前記被検体の断層像を再構成するポジトロン断層撮像装置において、前記撮像手段内周面の近傍に補正用放射線源を一時的に格納する格納手段を設けたことを特徴とするポジトロン断層撮像装置。
IPC (3):
G01T 1/161 ,  A61B 6/03 ,  G01T 7/00
FI (3):
G01T 1/161 A ,  A61B 6/03 F ,  G01T 7/00 C
F-Term (17):
2G088EE02 ,  2G088FF07 ,  2G088JJ29 ,  2G088LL30 ,  4C093AA21 ,  4C093CA18 ,  4C093CA34 ,  4C093CA36 ,  4C093EA05 ,  4C093EC47 ,  4C093EC60 ,  4C093ED06 ,  4C093ED07 ,  4C093EE01 ,  4C093FC11 ,  4C093FC16 ,  4C093GA06
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (1)

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