Pat

J-GLOBAL ID：200903075553453521

投影露光装置

Inventor： 西 健爾
Applicant, Patent owner： 株式会社ニコン
Agent (1)： 大森 聡
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992314839
Publication number (International publication number)：1994163354
Application date： Nov. 25, 1992
Publication date： Jun. 10, 1994
Summary：

【要約】【目的】 レチクル、投影光学系及びウエハを支持するステージ系が傾斜した場合でも、レチクルとウエハとの位置ずれ誤差が発生しないようにする。【構成】 投影光学系PLのレチクル16Aからウエハ8への投影倍率を1/M(Mは正の実数)としたときに、レチクル側移動鏡24及びレチクル側固定鏡25にそれぞれ入射する光ビームの投影光学系PLの光軸に平行な方向の間隔M・Lを、ウエハ8側のX軸用移動鏡9及びX軸用固定鏡10にそれぞれ入射する光ビームの投影光学系PLの光軸に平行な方向の間隔LのM倍に設定した。

Claim (excerpt)：

マスクのパターン像を感光基板上に投影する投影光学系と、前記マスクを保持して前記投影光学系の光軸に垂直な平面内で前記マスクを移動させるマスクステージと、前記感光基板を保持して前記投影光学系の光軸に垂直な平面内で前記感光基板を移動させる基板ステージと、前記マスクステージの所定の方向の移動量を検出するマスク側干渉計と、前記基板ステージの前記所定の方向と共役な方向の移動量を検出する基板側干渉計とを有する投影露光装置において、前記マスク側干渉計を、前記マスクステージに取り付けられたマスク側移動鏡と、前記マスクステージが載置されているマスク側ガイド部に対して動かないように取り付けられたマスク側参照鏡と、前記マスク側移動鏡及びマスク側参照鏡に対して光ビームを平行に照射して前記マスク側移動鏡及びマスク側参照鏡からそれぞれ反射される光ビームを干渉させるマスク側干渉計測手段とより構成し、前記基板側干渉計を、前記基板ステージに取り付けられた基板側移動鏡と、前記基板ステージが載置されている基板側ガイドに対して動かないように取り付けられた基板側参照鏡と、前記基板側移動鏡及び基板側参照鏡に対して光ビームを平行に照射して前記基板側移動鏡及び基板側参照鏡からそれぞれ反射される光ビームを干渉させる基板側干渉計測手段とより構成し、前記投影光学系の前記マスクから前記感光基板への投影倍率を1/M(Mは正の実数)としたときに、前記マスク側移動鏡及び前記マスク側参照鏡にそれぞれ入射する光ビームの前記投影光学系の光軸に平行な方向の間隔L1を、前記基板側移動鏡及び前記基板側参照鏡にそれぞれ入射する光ビームの前記投影光学系の光軸に平行な方向の間隔L2のM倍に設定した事を特徴とする投影露光装置。

IPC (3)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 9/00

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (3)

• 特開昭63-202019
  
• 特開平2-153519
  
• 特開平4-235558