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J-GLOBAL ID：200903075575747855

物体表面の疵検出装置

Inventor： 柿 本 純 忠 ,  内 藤 修 治 ,  馬 場 勘 次
Applicant, Patent owner： 新日本製鐵株式会社
Agent (1)： 杉信 興
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993070523
Publication number (International publication number)：1994281595
Application date： Mar. 29, 1993
Publication date： Oct. 07, 1994
Summary：

【要約】【目的】 撮影カメラによる表面疵検出精度を向上し、疵種を検出する。【構成】 撮影手段(6b,6a);撮影画像信号を画像デ-タに変換するA/D変換手段(6c);画像デ-タを格納するメモリ手段(5a);画像デ-タを読み出し、それに、画像デ-タの検査対象材の表面上のx,y2次元分布に対応する、第1所定領域分の2次元分布であってx,y方向の少くとも一方の方向に長さがある疵を強調する値に定められた係数でなる空間フィルタ(表1/表2)、による線強調処理を加えるフィルタ処理手段(1);線強調処理を加えたデ-タのx,y2次元第2所定領域分の平均濃度(Th)を算出する平均値算出手段(1);該平均濃度(Th)に基づき閾値(Thr)を算出する閾値算出手段(1);および、第2所定領域の画像デ-タを前記閾値(Thr)で2値化する2値化手段(1);を備える。

Claim (excerpt)：

検査対象材を照明する照明手段;該照明手段の照明光を拡散して検査対象材に投射する照明光拡散手段;該照明光拡散手段により照明された検査対象材を撮影する撮影手段;該撮影手段の撮影画像信号をデジタルデ-タである画像デ-タに変換するA/D変換手段;前記画像デ-タを格納する画像デ-タメモリ手段;該画像デ-タメモリ手段の画像デ-タを読み出し、それに、画像デ-タの検査対象材の表面上のx,y2次元分布に対応する、第1所定領域分の2次元分布であってx,y方向の少くとも一方の方向に長さがある疵を強調する値に定められた係数でなる空間フィルタ、による線強調処理を加えるフィルタ処理手段;該線強調処理を加えたデ-タのx,y2次元第2所定領域分の平均濃度を算出する平均値算出手段;該平均濃度に基づき閾値を算出する閾値算出手段;および、前記平均濃度を算出した第2所定領域の画像デ-タを前記閾値で2値化する2値化手段;を備える物体表面の疵検出装置。

IPC (5)：

G01N 21/89 ,  G01B 11/30 ,  G01N 21/88 ,  G06F 15/62 400 ,  G06F 15/68 400