α-不飽和アシルオキシ-γ-ブチルラクトン誘導体、高分子化合物及びフォトレジスト用樹脂組成物

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：後藤幸久
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004217765
Publication number (International publication number)：2006036891
Application date： Jul. 26, 2004
Publication date： Feb. 09, 2006
Summary：

【課題】フォトレジスト用樹脂の構成モノマーとして有用な新規なラクトン骨格を有する化合物を提供する。【解決手段】下記式(1)【化1】(式中、Raは水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜6のアルキル基又は炭素数1〜6のハロアルキル基を示す。Rbは酸脱離性基を示す。R1、R2は、同一又は異なって、炭化水素基を示す。R1及びR2は、互いに結合して、隣接する炭素原子と共に環を形成していてもよい。R3、R4は、同一又は異なって、水素原子又は炭化水素基を示す)で表されるα-不飽和アシルオキシ-γ-ブチロラクトン誘導体。【選択図】なし

Claim (excerpt)：

下記式(1)

IPC (5)：

C08F 220/28 , C08F 232/00 , G03F 7/039 , C07D 307/33 , H01L 21/027

FI (5)：

C08F220/28 , C08F232/00 , G03F7/039 601 , C07D307/32 T , H01L21/30 502R

F-Term (38)：

2H025AA02 , 2H025AA04 , 2H025AA09 , 2H025AA14 , 2H025AB16 , 2H025AC04 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BE10 , 2H025BG00 , 2H025CB08 , 2H025CB10 , 2H025CB14 , 4H039CA42 , 4H039CC20 , 4H039CC30 , 4J100AJ02Q , 4J100AK32Q , 4J100AL03Q , 4J100AL08P , 4J100AL08Q , 4J100AR09Q , 4J100AR11Q , 4J100BA03Q , 4J100BA11P , 4J100BA15Q , 4J100BA20P , 4J100BA20Q , 4J100BC08Q , 4J100BC09Q , 4J100BC53P , 4J100BC53Q , 4J100CA05 , 4J100CA06 , 4J100DA01 , 4J100DA04 , 4J100JA38

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

レジスト材料及びレジストパターンの形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-050264 Applicant：富士通株式会社

Cited by examiner (4)

ラクトン環を側鎖に有する(メタ)アクリル酸重合体及びその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-186118 Applicant：日本曹達株式会社
感放射線性樹脂組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2002-151225 Applicant：JSR株式会社
感放射線性樹脂組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2002-072984 Applicant：JSR株式会社

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