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J-GLOBAL ID：200903075616828776

デブリ抑制手段を備えたリソグラフィ装置およびデバイス製造方法

Inventor：
レヴィヌス ピエテル バッケル

About レヴィヌス ピエテル バッケル


Applicant, Patent owner：
エイエスエムエル ネザランドズ ベスローテン フエンノートシャップ

About エイエスエムエル ネザランドズ ベスローテン フエンノートシャップ


Agent (4)： 浅村 皓 ,  浅村 肇 ,  吉田 裕 ,  岩本 行夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003425023
Publication number (International publication number)：2004207736
Application date： Dec. 22, 2003
Publication date： Jul. 22, 2004
Summary：
【課題】デブリ抑制手段を備えたリソグラフィ装置およびデバイス製造方法を提供すること。【解決手段】本発明によれば、マスク上のマスク・パターンを基板の表面に結像させるリソグラフィ投影装置であって、放射線投影ビームを供給するように構成および配置された放射線系と、マスクを保持するように構成された第1のオブジェクト・テーブルと、基板を保持するように構成された第2のオブジェクト・テーブルと、マスクの照射された部分を基板のターゲット部分に結像させるように構成および配置された投影系とを有する装置において、電極をさらに有しており、それによって放射線源と電極の間に電界を適用してそれらの間に放電を生じさせることを特徴とする装置が提供される。本発明の装置に適用されたこの電界は、放射線源によって生成される望ましくない汚染物質(デブリ)を除去する。【選択図】図3
Claim (excerpt)：
放射線源を含む放射線系、および放射線の投影ビームを供給する照明系と、 所望のパターンに従って前記投影ビームにパターンを付与するように働くパターン形成手段を支持するための支持構造と、 基板を保持する基板テーブルと、 パターンが付与された前記投影ビームを前記基板のターゲット部分に投影する投影系と を有するリソグラフィ投影装置であって、 電極(9;150)と、 前記放射線源(LA)と前記電極(9;150)の間に電界を適用して前記放射線源(LA)と前記電極(9;150)の間に放電を生じさせるための電圧源(140)と をさらに有することを特徴とするリソグラフィ投影装置。
IPC (5)：
H01L21/027 ,  G03F7/20 ,  G21K5/00 ,  G21K5/02 ,  H05H1/24
FI (5)：
H01L21/30 531S ,  G03F7/20 521 ,  G21K5/00 Z ,  G21K5/02 X ,  H05H1/24
F-Term (3)：
5F046GA03 ,  5F046GA09 ,  5F046GC03
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (8)
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Cited by examiner (3)

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