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J-GLOBAL ID:200903075634404789

低圧雰囲気内での鋼材の浸炭(セメンテーション)のための方法及び装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 藤村 元彦 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1992245041
Publication number (International publication number):1993195192
Application date: Sep. 14, 1992
Publication date: Aug. 03, 1993
Summary:
【要約】【構成】 本発明による浸炭方法は、ポンプ吸引によって1mbar〜5mbarの圧力に維持された酸素を含まない気体雰囲気の中で処理すべき部品を800°C〜1,100°C、好ましくは900°C以上の温度に加熱すること、ならびに、各々単数又は複数の純粋な炭化水素を含む処理用ガスを制限された時間噴射することによって得られる複数の連続的炭素富化段階(C1 、C2)を遂行することから成り、ここで各々の富化段階(C1 、C2)は、オーステナイトの飽和段階への移行時間よりも短い持続時間を呈し、これらの富化段階は表面炭素含有量を調整できるようにする、より長い時間の真空下拡散段階(D1 、D2)によって分離されている。【効果】 本発明は、炭素移動メカニズムを単純化し、過剰炭化の不利な影響を避けることを可能にする。
Claim (excerpt):
鋼製部品の浸炭(セメンテーション)方法であって、ポンプ吸引により低圧に維持された酸素を含まない気体雰囲気の中で800°C〜1,100°C、好ましくは900°C以上の温度に処理すべき部品を加熱すること及び、各々単数又は複数の純粋な炭化水素を含む処理用ガスを制限された時間噴射することによって得られる複数の連続的炭素富化段階(C1 、C2)を遂行することから成り、各々の富化段階(C1 、C2)は、高温にされた鋼材のオーステナイト相の飽和段階への移行時間よりも短い持続時間を呈し、これらの富化段階(C1 、C2)は表面炭素含有量を調整できるようにする、より長い時間の真空下拡散段階(D1 、D2)によって分離されており、前記圧力は、浸炭用雰囲気が飽和されるか又は高い浸炭ポテンシャルを呈するような気体流量で1〜10mbarの値に維持されていること及び、処理用ガスの噴射段階は、処理すべき部品上を移動する気体流束を発生させることのできる1つの順序に従って利用される複数の噴射ノズルを用いて得られることを特徴とする、鋼製部品の浸炭方法。
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)
  • 特開平2-022451
  • 特公昭54-031976
  • 特開平1-212748

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