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J-GLOBAL ID：200903075649248430

プロフィル測定装置

Inventor： 大 熊 茂 幸 ,  平 賀 龍
Applicant, Patent owner： 株式会社東芝
Agent (1)： 佐藤 一雄 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994264157
Publication number (International publication number)：1996122052
Application date： Oct. 27, 1994
Publication date： May. 17, 1996
Summary：

【要約】【目的】 プロフィルデータを正確にかつ効率的に測定しうるプロフィル測定装置を提供すること。【構成】 各厚み計(1,2)が一定時間の間、被測定物(20)の同一箇所の厚みを測定した測定データを入力し、その測定データから各厚み計(1,2)相互間の測定機差を求める測定機差演算部(51)と、一定時間経過後、各厚み計(1,2)が被測定物(20)の所定の位置の厚みを測定した測定データを入力し、その測定データから測定機差を補正してクラウン量を演算する演算補正部(52)とを備えている。

Claim (excerpt)：

被測定物の中央部の厚みを測定する第1の厚み計と、前記被測定物のエッジ部の厚みを測定する第2の厚み計とを有し、この第1及び第2の厚み計の測定データに基いて前記被測定物のプロフィルを測定するプロフィル測定装置において、前記第1の厚み計及び前記第2の厚み計に一定時間の間前記被測定物の同一箇所の厚みを測定させ、前記一定時間経過後は前記第1の厚み計に前記被測定物の中央部の厚みを測定させ、前記第2の厚み計に前記被測定物のエッジ部の厚みを測定させるように制御する制御手段と、前記一定時間の間に前記第1の厚み計及び第2の厚み計によって測定された測定データから、前記第1の厚み計及び第2の厚み計相互間の測定機差を求める測定機差演算部と、前記一定時間経過後に前記第1の厚み計及び第2の厚み計によって測定された測定データから前記測定機差を補正してクラウン量を演算する演算補正部とを有するプロフィル演算手段とを具備することを特徴とするプロフィル測定装置。

IPC (2)：

G01B 21/20 ,  G01B 5/06

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 特開昭62-118208
  
• 特開平4-318412
  
• 特開昭62-118208
  
• 特開平4-318412