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J-GLOBAL ID：200903075691083026

投影露光装置及び該投影露光装置を用いたデバイスの製造方法

Inventor：
早田 滋

About 早田 滋


Applicant, Patent owner：
キヤノン株式会社

About キヤノン株式会社


Agent (1)： 高梨 幸雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994247213
Publication number (International publication number)：1995176475
Application date： Sep. 13, 1994
Publication date： Jul. 14, 1995
Summary：
【要約】【目的】 レチクル面の照明モードを適切に設定し高解像力の投影パターン像が得られる投影露光装置及び該投影露光装置を用いたデバイスの製造方法を得ること。【構成】 光入出射面を有し、前記光入射面で光源からの光を受け、前記光出射面側に2次光源を形成する2次光源形成手段と、前記2次光源からの光を物平面に照射する光照射手段と、光照射された前記物平面上のパターンを像平面上に投影する投影手段と、前記2次光源の光強度分布を変える2次光源調整手段と、前記光強度分布の変更に伴い前記像平面に生じる光軸に関して非対称な照度むらを実質的に補正する照度補正手段とを有すること。
Claim (excerpt)：
光入出射面を有し、前記光入射面で光源からの光を受け、前記光出射面側に2次光源を形成する2次光源形成手段と、前記2次光源からの光を物平面に照射する光照射手段と、光照射された前記物平面上のパターンを像平面上に投影する投影手段と、前記2次光源の光強度分布を変える2次光源調整手段と、前記光強度分布の変更に伴い前記像平面に生じる光軸に関して非対称な照度むらを実質的に補正する照度補正手段とを有する投影露光装置。
IPC (4)：
H01L 21/027 ,  G03B 27/32 ,  G03B 27/54 ,  G03F 7/20 521
FI (2)：
H01L 21/30 527 ,  H01L 21/30 515 D
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (3)
  • 特開平3-255612
  • 投影型露光装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-017524   Applicant：株式会社ニコン
  • 特開昭61-091662

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