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J-GLOBAL ID：200903075692551163

多純度膜方法

Inventor： クリスティアン・フリードリヒ・ゴッツマン ,  ラビ・プラサド ,  ホーマー・フェイ
Applicant, Patent owner： プラクスエア・テクノロジー・インコーポレイテッド
Agent (1)： 倉内 基弘 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993271158
Publication number (International publication number)：1994205924
Application date： Oct. 05, 1993
Publication date： Jul. 26, 1994
Summary：

【要約】【目的】 多純度の窒素生成物を生産する膜方法を提供する。【構成】 (a)供給ガス流を、少なくとも2つの膜段階を収容する膜系の第一膜段に通して一層透過性の成分を選択的に透過させ;(b)第一膜段から一層透過性の成分を含む透過質流を抜き出して膜系から排出させ;(c)供給ガス流の内の一層透過性に劣る成分を含む残留質流を第一膜段から続く膜段階に通して精製し;(d)膜系の最終膜段から残留質流を高純度生成物として回収し;(e)膜系の最終膜段から透過質流を抜き出し;(f)最終膜段から透過質流を或は最終膜段に供給ガス流として通る残留質流の一部を低純度生成物として回収することを含む方法。

Claim (excerpt)：

(a)供給ガス流を、少なくとも2つの膜段階を収容する膜系の第一膜段に通して一層透過性の成分を選択的に透過させ;(b)第一膜段から一層透過性の成分を含む透過質流を抜き出して膜系から排出させ;(c)供給ガス流の内の一層透過性に劣る成分を含む残留質流を第一膜段から続く膜段階に通して精製し;(d)膜系の最終膜段から残留質流を高純度生成物として回収し;(e)膜系の最終膜段から透過質流を抜き出し;(f)最終膜段から透過質流を或は最終膜段に供給ガス流として通る残留質流の一部を低純度生成物として回収することを含み、それで供給ガス流から単一の統合されたプロセスで異なる純度の生成物を効率的に回収する、生成ガスを1つより多い純度で生成する方法。

IPC (4)：

B01D 53/22 ,  B01D 61/58 ,  B01J 19/00 ,  C01B 21/04