浸炭処理方法及びその装置

Inventor： , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：山本彰司
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001169636
Publication number (International publication number)：2002363727
Application date： Jun. 05, 2001
Publication date： Dec. 18, 2002
Summary：

【要約】【課題】浸炭リードタイムの短縮とトータルエネルギーの削減を図った経済的な浸炭処理方法を提供する。【解決手段】炉内雰囲気を炭素固溶限直下の高炭素ポテンシャルに維持して浸炭を行う、好ましくは、炉内を減圧し、該炉内に炭化水素系ガスと酸化性ガスを直接供給して炉内雰囲気を前記炭素固溶限直下の高炭素ポテンシャルに維持して浸炭を行う浸炭処理方法。

Claim (excerpt)：

炉内雰囲気を炭素固溶限直下の高炭素ポテンシャルに維持して浸炭を行うことを特徴とする浸炭処理方法。

IPC (2)：

C23C 8/22 , C23C 8/28

FI (2)：

C23C 8/22 , C23C 8/28

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (10)

鋼の迅速浸炭法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-233979 Applicant：同和鉱業株式会社
特開平1-212748
特開平1-212748

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