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J-GLOBAL ID：200903075699444397
磁気抵抗効果ヘッド及びその製造方法
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
小川 勝男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994198177
Publication number (International publication number)：1996063717
Application date： Aug. 23, 1994
Publication date： Mar. 08, 1996
Summary：
【要約】【構成】MRヘッドのセンサ部の両脇に配置する縦バイアス膜と電極膜のうち、間隔の広い方の端部を、狭い方の端部よりも急峻なテーパ形状にする。また、リフトオフ法を利用し、縦バイアス膜と電極膜の二つのパターンを、一つのマスク材を用いて作製する。【効果】磁気ギャップ膜のつきまわりが改善され、電極/磁気シールド間の絶縁耐圧を大きくでき、また、縦バイアス膜と電極膜のパターン位置合わせ精度が向上し、製造コストを低減できる。
Claim (excerpt)：
磁気抵抗効果膜と、該磁気抵抗効果膜のセンサ両端部に設けた一対の縦バイアス膜と、前記磁気抵抗効果膜のセンサ両端部に設けた一対の電極膜とを備えた磁気抵抗効果ヘッドにおいて、前記磁気抵抗効果膜側に隣接する前記縦バイアス膜及び前記電極膜の端部が角度90度未満のテーパ状となっており、センサ部分における前記一対の縦バイアス膜の間隔と前記一対の電極膜の間隔のうち、大きい方の端部テーパ角度が小さい方の端部テーパ角度よりも急峻であることを特徴とする磁気抵抗効果ヘッド。
IPC (2)：
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