Pat
J-GLOBAL ID：200903075751350584
マスクパターン評価システム及びその方法
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
三好 秀和 (外7名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001253110
Publication number (International publication number)：2003066590
Application date： Aug. 23, 2001
Publication date： Mar. 05, 2003
Summary：
【要約】【課題】 マスクパターンを評価するに際して、パターン救済の可否を考慮することで、より正確なマスクパターンの評価を行うことが出来るのである。【解決手段】 マスクパターンのパターンイメージを取得するパターンイメージ取得部112と、パーティクルによって生じる欠陥のサイズ及び個数を入力し、その欠陥のサイズ及び個数に基づいて模擬的に欠陥を発生させるプログラム欠陥発生部113と、取得されたパターンイメージに、発生された模擬欠陥を合成するパターン欠陥イメージ作成部115と、作成されたパターン欠陥イメージ内の模擬欠陥に対して、パターン救済ルール116に基づいてパターン救済に可否を判定するパターン救済判定部117と、パターン救済判定部117の結果に基づいて、パターン救済不可率、若しくは、パターン救済率を計算するパターン救済不可率計算部118とを有するようにしてある。
Claim (excerpt)：
マスクパターンのパターンイメージを取得するパターンイメージ取得部と、少なくともパーティクルによって生じる欠陥のサイズ及び個数を入力し、その欠陥のサイズ及び個数に基づいて模擬的に欠陥を発生させるプログラム欠陥発生部と、前記パターンイメージ取得部にて取得されたパターンイメージに、前記プログラム欠陥発生部にて発生された模擬欠陥を合成して、パターン欠陥イメージを作成するパターン欠陥イメージ作成部と、前記パターン欠陥イメージ作成部にて作成されたパターン欠陥イメージ内の模擬欠陥に対して、パターン救済ルールに基づいてパターン救済の可否を判定するパターン救済判定部と、前記パターン救済判定部の結果に基づいて、パターン救済率を計算するパターン救済率計算部と、を有することを特徴とするマスクパターン評価システム。
F-Term (3)：
2H095BD05
, 2H095BD24
, 2H095BD29
Cited by applicant (2)
Cited by examiner (1)
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