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J-GLOBAL ID：200903075781042221

真空室用ガス導入装置

Inventor： 和田 優一
Applicant, Patent owner： 東京エレクトロン株式会社
Agent (1)： 井上 一 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991204050
Publication number (International publication number)：1994079159
Application date： Jul. 17, 1991
Publication date： Mar. 22, 1994
Summary：

【要約】【目的】 所定真空度の真空室にガスを導入する際の衝撃波の発生を防止する。【構成】 真空室12,14とガス供給源42との間の真空解除ライン40に、ゲートバルブ42,開度調整可能な第1のバルブ46,中間室48,開度調整可能な第2のバルブ50を設ける。中間室の圧力P1 と真空室12又は14内の圧力P2 は、それぞれ第1,第2の圧力計52,54で検出される。差圧制御部56は、各圧力P1 ,P2 の間の差圧を求め、この差圧が10Torr以下になるように、第1,第2のバルブ46,50の開度調整を行なう。この制御により、ゲートバルブ42の全開後の真空解除時には、真空室12又は14と真空解除ライン40との圧力差が常に所定値以下に維持されてガス導入が実施されるので、衝撃波の発生を確実に防止できる。

Claim (excerpt)：

真空雰囲気の真空室にガス供給源からガスを導入する装置において、前記真空室と前記ガス供給源との間のガス導入ライン途中に設けられた中間室と、前記中間室と前記ガス供給源との間のガス導入ライン途中に設けられ、開度調整可能な第1のバルブと、前記中間室と前記真空室との間のガス導入ライン途中に設けられ、開度調整可能な第2のバルブと、前記中間室内の圧力を検出する第1の圧力検出部と、前記真空室内の圧力を検出する第2の圧力検出部と、前記第1,第2の圧力検出部で検出される各圧力間の差圧を所定値以下に維持するように、前記第1,第2のバルブの開度をそれぞれ調整制御する差圧制御部と、を有することを特徴とする真空室用ガス導入装置。

IPC (5)：

B01J 3/02 ,  C23C 14/34 ,  F04B 37/16 ,  H01L 21/302 ,  H01L 21/203