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J-GLOBAL ID：200903075786260510

光学用フイルムまたはシートの製造方法

Inventor：
米村 有民

About 米村 有民

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岩田 薫

About 岩田 薫

, 
新田 英昭

About 新田 英昭

, 
阿部 正典

About 阿部 正典


Applicant, Patent owner：
帝人株式会社

About 帝人株式会社


Agent (1)： 前田 純博
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001041460
Publication number (International publication number)：2001305349
Application date： Aug. 11, 1993
Publication date： Oct. 31, 2001
Summary：
【要約】【課題】 本発明の目的は、耐熱性に優れ、かつ、透明性、光学特性に優れた光学用フイルムまたはシートの製造方法を提供することにある。【解決手段】 下記一般式[I]【化1】[式中、R1,R2,R3およびR4は水素原子を表し、Xは炭素数5〜10のシクロアルキレン基である。]で示される繰り返し単位を30モル%を越える割合で含有するポリカーボネート重合体を溶媒に溶解し、該ポリカーボネート重合体の濃度を15重量%以上とした溶液を用いてキャスティング法により製膜し、必要に応じてニ軸延伸して、膜厚が50〜500μmであり、かつリタデーション(Re)が10nm以下であるフイルムまたはシートを形成することを特徴とする光学用フイルムまたはシートの製造方法。
Claim (excerpt)：
下記一般式[I]【化1】[式中、R1,R2,R3およびR4は水素原子を表し、Xは炭素数5〜10のシクロアルキレン基である。]で示される繰り返し単位を30モル%を越える割合で含有するポリカーボネート重合体を溶媒に溶解し、該ポリカーボネート重合体の濃度を15重量%以上とした溶液を用いてキャスティング法により製膜し、必要に応じてニ軸延伸して、膜厚が50〜500μmであり、かつリタデーション(Re)が10nm以下であるフイルムまたはシートを形成することを特徴とする光学用フイルムまたはシートの製造方法。
IPC (7)：
G02B 5/30 ,  B29C 41/24 ,  C08J 5/18 CFD ,  G02F 1/13363 ,  B29K 69:00 ,  B29L 7:00 ,  C08L 69:00
FI (7)：
G02B 5/30 ,  B29C 41/24 ,  C08J 5/18 CFD ,  G02F 1/13363 ,  B29K 69:00 ,  B29L 7:00 ,  C08L 69:00
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (13)
  • 特開平2-088634
  • 特開平1-096623
  • 特開平2-113455
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