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J-GLOBAL ID：200903075787519895

ウエハチヤツク

Inventor： 久保 博義
Applicant, Patent owner： キヤノン株式会社
Agent (1)： 伊東 哲也 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991210444
Publication number (International publication number)：1993036818
Application date： Jul. 29, 1991
Publication date： Feb. 12, 1993
Summary：

【要約】【目的】 耐久性を高め、表面剥離によるウエハ汚染を防止し、異物付着によるウエハの平面矯正の劣化を防止するとともにコストの低減を図ったウエハチャックを提供する。【構成】 第1の物体の投影像を感光剤を塗布した第2の平行状物体に投影レンズを通して露光するための投影露光装置において、第2の平板状物体を支持する支持台の材料として、SiC(6-a〜6-c)にSi(7-a、7-b)を含浸させたセラミクスを用いる。

Claim (excerpt)：

第1の物体の投影像を感光剤を塗布した第2の平行状物体に投影レンズを通して露光するための投影露光装置において、第2の平板状物体を支持する支持台の材料として、SiCにSiを含浸させたセラミクスを用いることを特徴とするウエハチャック。

IPC (2)：

H01L 21/68 ,  H01L 21/027