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J-GLOBAL ID:200903075806360088

コポリイミドの製造法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 久保山 隆 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1994256470
Publication number (International publication number):1996120075
Application date: Oct. 21, 1994
Publication date: May. 14, 1996
Summary:
【要約】 (修正有)【目的】溶解性や成形性に優れ、低誘電性をも有する新規なコポリイミド。【構成】一般式(1) (式中、Xは炭素数1〜20の炭化水素基または硫黄原子を表す。Rはハロゲン原子、炭素数1〜6の炭化水素基または炭素数1〜6の含ハロゲン炭化水素基を表し、aは0〜4の整数で置換基の数を表す。)で表されるジアミノ化合物と、一般式(2) (式中、Yはメチレン基、酸素原子、硫黄原子またはスルホニル基を表す。Rはハロゲン原子、炭素数1〜6の炭化水素基または炭素数1〜6の含ハロゲン炭化水素基を表し、aは0〜4の整数で置換基の数を表す。nは0〜2の整数を表す。)で表されるジアミノ化合物とのモル比が99:1〜10:90であるジアミノ化合物の混合物、および一般式(3) (式中、Zは炭素数2以上の4価の有機基を表す。)で表されるテトラカルボン酸二無水物を反応させることを特徴とするコポリイミドの製造法。
Claim (excerpt):
一般式(1)【化1】(式中、Xは炭素数1〜20の炭化水素基または硫黄原子を表す。Rはハロゲン原子、炭素数1〜6の炭化水素基または炭素数1〜6の含ハロゲン炭化水素基を表し、aは0〜4の整数で置換基の数を表す。但し、複数のRおよびaはそれぞれ独立に異なった置換基および値をとりうる。)で表されるジアミノ化合物と、一般式(2)【化2】(式中、Yはメチレン基、酸素原子、硫黄原子またはスルホニル基を表す。Rはハロゲン原子、炭素数1〜6の炭化水素基または炭素数1〜6の含ハロゲン炭化水素基を表し、aは0〜4の整数で置換基の数を表す。但し、複数のRおよびaはそれぞれ独立に異なった置換基および値をとりうる。またnは0〜2の整数を表す。)で表されるジアミノ化合物とのモル比が99:1〜10:90であるジアミノ化合物の混合物、および一般式(3)【化3】(式中、Zは炭素数2以上の4価の有機基を表す。)で表されるテトラカルボン酸二無水物を反応させることを特徴とするコポリイミドの製造法。

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